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陶经理 先生
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发布时间:2020-10-28 00:54:32
具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。洁净***室和洁净辅助用房内必须设置的插座、开关、器械柜等均嵌入墙内,与墙面平齐。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。
100级洁净间的气流形式是层流方式,空气以均匀的断面速度沿同一水平方向流动,与流体力学的层流概念不太相同,垂直方向层流并且侧回风。进行精密仪器室设计的同时,也要做好相关配套化学处理室的设计工作,因为这在保护仪器和加强管理上是非常必要的。和百级以上洁净间絮流方式(即空气以不均匀的速度呈不平行流线流动)相比较,它具有效果完全、运转迅速稳定、使得空气的尘埃粒子含量少,控制管理方便容易等优点,但是设备价格高令一些中小厂家难以承受,维护费用也很高。
百级洁净室设计装修参数标准:
1. 洁净度:粒径≥0.1微米的尘埃粒子数量需要小于100个。
2. 压差及温湿度:温度22℃±2;湿度55%±5;基本房间要满布ffu,做高架地板。做MAU ffu DC系统。还有保持正压,相邻房间压力梯度保证在10pa左右。
3. 照度:由于无尘洁净室的工作内容大多有精细的要求,而且又都是密闭性房屋,所以,对照明一向有很高的要求。主要有以下几点:
4. 局部照明:这是指为增加某一地点的照度而设置的照明。但在室内照明中一般不单独使用局部照明。
5. 混合照明:指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成照明,其中,一般照明的照度应占总照度的10%-15%。
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