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陶经理 先生
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发布时间:2020-06-09 20:55:06
具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。②施工工艺:基层检查、清理→分格弹线→刷胶→铺贴→开槽→焊缝→清洗打腊→验收。
洁净室中的气压规定:对于大部分洁净空间,为了防止外界污染***,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:1.洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。3.相通洁净室之间的门要开向洁净度级别高的房间。PVC地板能达到实验室的要求:***的实验室对于内部卫生的要求都是非常高的,因为灰尘会对实验的进行还有结果造成不可忽视的影响。
为了避免电压瞬变、瞬时停电、电压不足等现象,可以根据需求选用不间断电源(UPS)。 进行精密仪器室设计的同时,也要做好相关配套化学处理室的设计工作,因为这在保护仪器和加强管理上是非常必要的
。乱流洁净室送风量:乱流洁净室送风量的理论计算(其中nv—洁净室换气次数,次/h;V—洁净室净体积,m3;G—单位容积发尘量,粒/(m3.min);N—乱流洁净室稳定含尘浓度,粒/L;S—回风量与送风量之比;ηh—回风通路上过滤器的总效率;除可利用局部照明外,必要时也可利用自然光,当平面上有外廊时就可以做到这一点。ηx—新风通路上过滤器的总效率)
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